品名：金靶（au target）
纯度：99.9%、99.99%、99.995%、99.999%
分子量：196.9665
密度：19.32 g/cm3
熔点：1062℃
制作工艺：真空磁悬浮熔炼，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
适用仪器：各类型号磁控溅射设备等
产品用途：用于stn、tft、ai、tp等磁控溅射镀膜，工业级镀膜，实验或研究级别用金靶材，电子，光电，军用，装饰，功能薄膜等
产品优点：质量可靠，价格优惠，还原法制备，纯度高，杂质少，轧制致密，氧化少，成型可塑，相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高
高纯度,高质量.
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